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主要參數(shù)： 電光晶體：LiNbO3（鈮酸鋰）；光源是半導體激光器；波長650nm；功率≥2.5mW；導軌1000mm；偏振片φ20mm；1/4波片；晶體偏置電壓：0~400V（數(shù)碼顯示），交流內(nèi)調(diào)制信號電壓0-40VPP；頻率1KHZ（連續(xù)可調(diào)）
更新時間：2024-12-12
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
1、觀察聲光調(diào)制的衍射現(xiàn)象（布拉格衍射）；2、測試聲光晶體的調(diào)制特性；3、調(diào)制晶體：鉬酸鉛晶體；4、調(diào)制方式：橫向調(diào)制；5、調(diào)制電壓：0-40VPP；6、調(diào)制波形：1KHZ正弦波（或其他波形，例如鋸齒波）；7、調(diào)制帶寬：20MHZ；8、電源：220±10%，50HZ；9、激光波長：650~680nm；
更新時間：2024-12-12
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
儀器介紹 本實驗包括激光散斑照相和電子散斑干涉兩部分。利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內(nèi)位移場的測試，以及由此引伸出來的應(yīng)變、應(yīng)力場測試、距離、速度測試、物體內(nèi)在缺陷和振動分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。利用電子散斑干涉對物體離面位移進行測量，同時對傳統(tǒng)的干版曝光和計算機圖形處理兩種方法作比較，以加深對散斑干涉的理解。
更新時間：2024-12-12
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
儀器介紹 利用二次曝光散斑圖進行物體表面面內(nèi)位移場的測試，以及由此引伸出來的應(yīng)變，距離，速度測試，物體內(nèi)在缺陷和振動分析是散斑效應(yīng)Z有前途的應(yīng)用領(lǐng)域。 實驗內(nèi)容 1、拍攝自由空間散斑和成像散斑圖，了解激光散斑現(xiàn)象及其特點 2、掌握二次曝光散斑圖的逐點分析和全場分析測物體面內(nèi)位移的方法
更新時間：2024-12-12
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
